半导体行业重中之重的超纯水处理工艺,超滤膜的重核应用
半导体行业是一个高能耗的行业。在半导体产品制造过程中,由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性,对其配套设施提出了很高的要求,尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。
江西某电子产业园纯水处理项目
项目背景
电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器,活性碳过滤器,精密过滤器,超滤膜等构成预处理系统,RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要深度处理设备系统。半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18 MΩ.cm、15 MΩ.cm、10 MΩ.cm、2 MΩ.cm、0.5 MΩ.cm)、我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
本项目设计采用“原水+盘式过滤器+超滤系统+反渗透系统+EDI系统+抛光混床处理系统”主要处理工艺组合,出水稳定达到生产用水标准。

(图片来源:立升净水公众号,侵删)
柱式超滤(UF)以压力为推动力的膜分离技术之一。以分离大分子与小分子为目的,常用于高精度纯水处理设备中的预处理系统,已经取得了有效的成绩。

(图片来源:立升净水公众号,侵删)
项目概况
处理规模:40000 m3/d
投产时间:2019年8月
原水类型:自来水
运行模式:运行30 min,水反洗1 min
处理工艺:原水-盘滤-超滤-两级反渗透-EDI-抛光混床
用途:生产用水

(图片来源:立升净水公众号,侵删)
系统设计水质
项目 | 超滤系统 | 一级RO | 二级RO | 混床系统 |
设计 水质 | <600 μs/cm | <20 μs/cm | <5 μs/cm | >15 MΩ.cm |
产品介绍
该项目设计处理水量40000 m3/d,采用478支LH4-1080-V柱式超滤膜组件,膜材质为PVC合金超滤膜,用于4个纯水车间,2019年8月竣工并进入试运行。

(图片来源:立升净水公众号,侵删)
经验分享
在超纯水制造工艺中,传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。该项目采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分,优势凸显。
效果好:传统的预处理过程中SDI值不好控制,一般大于5,不利于后续的一级反渗透系统的运行。而超滤装置的出水SDI值比较稳定,通常可保证SDI<3,能够有效地保证一级反渗透系统的运行。
占地面积小:传统的预处理方式占地而积大,而“粗过滤器+超滤装置”占地而积小,节约了基建费用。
减少人力物力成本:传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力,相比而言,超滤装置的更换方便,大大减少了人力物力成本。
综合一次性投资成本和后期运行维护费用运行更高效:近年来,由于超滤技术的不断成熟,系统能够稳定安全地运行,而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低,综合一次性投资成本和后期运行维护费用,超滤膜更能有效保障后期处理设备的安全,延长设备的使用寿命。
(文章来源:立升净水公众号,侵删)
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