半导体行业是一个高能耗的领域。在这一领域，由于生产设备的精度和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，特别是对于半导体行业的血液超纯水系统。

如果你想保持竞争力，你必须从增加产量和降低成本开始。因此，本文探讨了半导体行业中超纯水处理系统的优化设计，为相关科研工作提供一定的理论帮助。

随着科学研究的不断进步和发展，半导体行业需要大量高质量的超纯水。超纯水制备起初采用了传统的离子交换树脂方法，一次投资少，占地面积小，但不断消耗大量酸碱，离子再生，在一定程度上污染了环境。

(文章来源：摩尔净水器官网，侵删)

目前，反渗透和离子交换设备的方法更为流行。虽然一次成本略高于以前，但离子再生周期相对较长，酸碱消耗量远低于以前。本文分析了反渗透预处理和电去离子装置的方法，是超纯水制备相对先进和环保的工艺方法，无需酸碱再生即可连续生产超纯水，不会污染环境，超纯水是世界上纯净质量要求较高的水。

半导体行业中超纯水设备系统采用先进的水处理技术和设备：预处理系统，降低水中溶解总固体的含量，去除水中的悬浮杂质。反渗透系统，多采用双级反渗透工艺，从而降低能耗。EDI模块和CEDI模块通常用于电去离子。EDI是指将盐水循环注入浓水室，从而降低膜组的电阻率。不仅如此，还需要使用不含硬度离子的精盐，以确保高精度。CEDI模块是指在不注入盐水循环的情况下，不使用化学物质，通过专利树脂技术降低膜组电阻率，浓水电导率为20～100μS/cm，无极水排放，抛光混床部分基本采用双级抛光混床。超纯水处理系统首先通过原水池，在增压汞工作下进入多介质过滤模块，然后通过安全过滤器和高压汞处理进入反渗透装置模块，到达中间水箱，然后通过增压汞，通过阳床和阴床到达大循环水箱，进入动力传输和单混合床，然后在紫外线灭菌器的作用下进入有效控制纯水中颗粒含量的终端过滤，通过终端过滤的超纯水流入回水管道、出水管道、废水排放管道和检测模块。通过超纯水的制备工艺，有效控制了超纯水中的离子、TOC、溶解氧、颗粒和硅含量，较大限度地减少了二次污染。

传统纯水制备设备安装后，无人问津数据的收集和管理。传统模式对系统优化有很大的弊端。首先，它对水生产过程的操作人员有很大的依赖性，需要实时确认和解释水质、氮供应和各种汞的运行情况。因此，它对管理者的专业能力要求很高，会损失很多专业人才。

两级DTRO工艺是基于盘管反渗透膜的工艺应用，其核心技术是盘管反渗透膜独特的结构形式，使反渗透膜直接处理高浓度废水成为可能，是一种稳定可靠的处理技术，具有投资省、自控程度高、操作维护简单、运行成本低、稳定可持续满足排放要求的特点，具体如下：

（1）工艺简单紧凑，纯水设备标准化。如两级DTRO成套装置图，整套装置集成预处理砂滤清系统、安全过滤器、反渗透膜组件、高压泵、循环泵、系统清洗水箱、设备供电控制MCC柜、PLC柜等。

此外，用于原水加酸调节、出水碱回调等原水罐、泵阀也是标准化的成套设备，在工厂完成加工、安装和调试；运输现场吊装到位后即可调试，投入运行周期短。

（2）工艺稳定性强，维护简单，能耗低。由于影响膜系统截留率的因素较少，系统出水水质非常稳定，不受秦秦生化和氮比的影响；工艺中使用的DT膜组件采用标准化设计，易于拆卸和维护。

打开DT组件，可以轻松检查和维护任何过滤膜和其他部件。维护简单。当零件数量不足时，组件允许少安装膜和导流板，而不影响DT膜组件的使用。

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